高纯水设备【单晶硅、微电子产品生产用高纯水设备】
型号 | RO-EDI | 操作压力 | 0.5-1.5(Mpa) |
水电阻率 | 18 | 出水量 | 0.5-100 |
外形尺寸 | 200*1500*300(cm) | 电压 | 380(V) |
水质 | 纯水 | 功率 | 30000(w) |
电导率 | 0.06 | 脱盐率 | 98(%) |
单机出力 | 100T(/h) | 品牌 | 沧浪源 |
单晶硅、微电子产品生产用高纯水 |
单晶硅、微电子产品生产用高纯水 |
单晶硅等硅材料、集成电路芯片及封装、液晶显示、光电器件、各种电子器件、微电子工业、需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。目前对其清洗和生产的水质精度要求都比较高,电阻度一般要求大于10兆欧/厘米; 其主要工艺如下: 1、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点 |
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